真空應用
推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝
電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。
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PDP子場數(shù)據(jù)自適應優(yōu)化低功耗尋址方法
為降低等離子體顯示器(PDP)的尋址功耗, 在分析PDP尋址功耗和圖像信息在各子場分布特征的基礎上, 根據(jù)人眼視覺在不同背景亮度下對圖像信息感知能力不同的特點, 提出了子場數(shù)據(jù)自適應優(yōu)化低功耗尋址方法。
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新型反射腔在多頻相對論返波振蕩器中的粒子模擬研究
設計了兩類新型同軸反射腔并成功地應用于多頻高功率微波輸出。反射腔采用非對稱的同軸結構, 置于同軸相對論返波振蕩器( CRBWO) 慢波系統(tǒng)的前端。
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Cu含量對脈沖偏壓電弧離子鍍TiN-Cu納米復合薄膜硬度的影響
用脈沖偏壓電弧離子鍍技術在高速鋼基體上制備了一系列不同Cu含量的TiN-Cu納米復合薄膜，分別測試了薄膜的成分、形貌、相組成、硬度和彈性模量，重點考察薄膜成分對其硬度和彈性模量的影響。
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ZSN-800AG2電子束蒸發(fā)鍍膜機程序化自動控制系統(tǒng)的設計
本文對ZSN-800AG2電子束蒸發(fā)鍍膜機的控制系統(tǒng)進行了設計，重點對應用iFix 組態(tài)軟件實現(xiàn)工藝過程用戶可編程序化的動控制方法設計以及數(shù)據(jù)存儲和趨勢曲線顯示等做了設計分析，完成了整 機的工藝試驗。
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Si90Al10Nx薄膜的工藝控制及光學性能研究
通過改變磁控濺射過程中氬氣與氮氣的分壓比，制備了多種不同厚度的Si90Al10Nx薄膜樣品，并采用透射率輪廓法對樣品在熱處理前后的光學性能進行了測量和分析。
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溫度對磁控濺射氮化鈦薄膜光學性能的影響
本文采用能量過濾磁控濺射技術，通過改變沉積溫度在玻璃襯底上制備了一系列TiN 薄膜。利用XRD進行了物相鑒定，使用分光光度計、橢圓偏振光譜儀和四探針電阻儀測試了TiN 薄膜的光學性能。
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