真空應(yīng)用
推薦電鍍污水中有機(jī)污染物去除工藝
電鍍廢水中的有機(jī)污染物來(lái)源主要有3個(gè)方面：鍍前處理、電鍍過(guò)程和鍍后處理。污水中有機(jī)污染物的3種去除方法：生化法、微波化學(xué)法和物化法。
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真空制鹽自動(dòng)化控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與應(yīng)用
介紹了真空制鹽自動(dòng)化控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、現(xiàn)場(chǎng)儀表選型、控制系統(tǒng)構(gòu)架等, 并針對(duì)工藝要求、具體功能、自控系統(tǒng)的應(yīng)用進(jìn)行了詳細(xì)的闡述。
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化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的摩擦學(xué)性能研究進(jìn)展
介紹了化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的主要方法,著重討論了金剛石薄膜的摩擦學(xué)性能研究,簡(jiǎn)要分析了化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜中存在的問(wèn)題。
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液相電化學(xué)沉積類(lèi)金剛石薄膜的研究進(jìn)展
概述了液相電沉積技術(shù)的基本原理和方法,重點(diǎn)從四個(gè)方面介紹了電化學(xué)方法制備類(lèi)金剛石薄膜的研究進(jìn)展。
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金剛石薄膜摩擦學(xué)性能研究進(jìn)展
介紹了近年來(lái)國(guó)內(nèi)外學(xué)者為提高金剛石薄膜摩擦學(xué)性能而進(jìn)行的探索研究及其發(fā)展現(xiàn)狀
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土樣真空冷凍升華干燥儀研制中的一些問(wèn)題
介紹了真空冷凍升華干燥儀開(kāi)發(fā)研制的設(shè)計(jì)構(gòu)思以及安裝過(guò)程中涉及的幾個(gè)問(wèn)題和試驗(yàn)操作中的注意事項(xiàng)。
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高Xe混合氣體對(duì)蔭罩式等離子體顯示器性能的影響
使用7”蔭罩式等離子體顯示屏為實(shí)驗(yàn)平臺(tái),以提高發(fā)光效率為目標(biāo),研究了提高Xe濃度對(duì)于SM-PDP性能的影響。
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反應(yīng)磁控濺射沉積SiOx薄膜制備鑲嵌在二氧化硅介質(zhì)中納米晶硅不可行性研究
探討反應(yīng)磁控濺射不宜用于制備鑲嵌在二氧化硅介質(zhì)中納米晶硅(nc2Si/SiO2)的前驅(qū)體SiOx膜的原因
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沉積溫度對(duì)高溫超導(dǎo)帶材YBiO3緩沖層外延生長(zhǎng)的影響
采用脈沖激光沉積(PLD)方法,在LaAlO3(001)基片上研究了沉積溫度對(duì)用作高溫超導(dǎo)帶材緩沖層YBiO3結(jié)晶的影響。
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真空下低價(jià)二氯化鋁生成及其分解熱力學(xué)簡(jiǎn)化研究
對(duì)不同壓力下三氧化二鋁與碳、氯化鋁在低價(jià)氯化物法煉鋁過(guò)程中生成低價(jià)二氯化鋁及低價(jià)二氯化鋁分解的熱力學(xué)條件進(jìn)行簡(jiǎn)化計(jì)算。
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多層膜CIA預(yù)制層后硒化法制備Cu(In1- xAlx)Se2薄膜的研究
用真空蒸發(fā)法在玻璃襯底上蒸鍍Cu-In-Al多層膜，后采用真空硒化退火獲得Al 含量不同的Cu(In1-xAlx)Se2多晶薄膜。
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Cr/Al雙層納米薄膜的力學(xué)性能測(cè)試及其仿真分析
采用納米壓痕儀測(cè)量Cr/Al雙層納米薄膜的力學(xué)性能，結(jié)合有限元仿真的手段對(duì)壓痕測(cè)試進(jìn)行模擬。
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