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真空技術(shù)網(wǎng) - 專業(yè)研究真空、真空技術(shù)及真空泵等真空設(shè)備的真空網(wǎng)。

推薦電鍍污水中有機(jī)污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機(jī)污染物來源主要有3個(gè)方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機(jī)污染物的3種去除方法：生化法、微波化學(xué)法和物化法。

  • 真空開關(guān)電弧實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析

    利用該實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)得到了不同波長(zhǎng)下的電弧圖像,運(yùn)用MATLAB 經(jīng)過圖像處理得到真空電弧的灰度等值曲線,形象地表達(dá)了溫度場(chǎng)的分布;通過計(jì)算得到了電子溫度在不同電流下沿著徑向的分布。試驗(yàn)結(jié)果表明: (1) 在電弧電流為8191

  • 真空開關(guān)電弧實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)

    本文運(yùn)用CCD光學(xué)方法實(shí)現(xiàn)了真空開關(guān)電弧等離子體溫度診斷,得到了真空開關(guān)電弧的圖像.

  • 真空開關(guān)電弧電子溫度診斷原理

    金屬蒸氣等離子體是開關(guān)電弧的基本狀態(tài),在研究真空開關(guān)電弧等離子體參數(shù)的基礎(chǔ)上,對(duì)其進(jìn)行調(diào)控,是開關(guān)電器領(lǐng)域重要的研究任務(wù)之一。

  • 連續(xù)卷繞CPP鍍鋁膜設(shè)備的部件功能和工作過程

    論述了雙冷卻鍍膜輥懸空平展鍍膜技術(shù)的技術(shù)原理和結(jié)構(gòu)特性，及其在解決CPP 流延塑料薄膜基材表面鍍制鋁膜時(shí)出現(xiàn)亮暗條紋線難題中的顯著效果。并提出獨(dú)特的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)冷卻和自流式蒸發(fā)舟設(shè)置的特殊設(shè)計(jì)對(duì)提高大型寬幅高

  • 高真空連續(xù)卷繞CPP鍍鋁膜設(shè)備的工作原理及特點(diǎn)

    大型寬幅高真空連續(xù)卷繞鍍膜設(shè)備是專門用于CPP膜鍍鋁的專用設(shè)備，是目前我國(guó)自行研制的幅寬最大、效率最高的真空卷繞鍍鋁設(shè)備之一。

  • 精密復(fù)雜模具在熱處理過程中變形的原因分析

    合理選材、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理、合理選擇加熱溫度、適當(dāng)?shù)念A(yù)冷、正確的熱處理工藝操作和合理的回火熱處理工藝也是減少精密復(fù)雜模具變形的有效措施。

  • 新型CPC熱管真空管集熱器的結(jié)構(gòu)

    基于CPC 型太陽能集熱器的發(fā)展現(xiàn)狀，介紹了肋片型、導(dǎo)熱油型兩種CPC 熱管真空管集熱器的結(jié)構(gòu)。

  • 多唇邊式真空吸盤的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與其優(yōu)點(diǎn)

    傳統(tǒng)的真空吸盤多用于吸附表面光滑的工件，對(duì)于表面質(zhì)量較差的，如有明顯的凸起、凹坑的工件將出現(xiàn)漏氣現(xiàn)象。本文基于真空原理，針對(duì)表面狀況差且質(zhì)量較大的工件，成功的設(shè)計(jì)出一種多唇邊式真空吸盤，并就該結(jié)構(gòu)吸盤

  • 影響真空吸盤吸附性能的幾個(gè)主要因素

    真空吸盤的結(jié)構(gòu)和真空吸盤的材料以及吸盤與被吸附工件表面的貼合程度都會(huì)制約真空吸盤的吸附性能。

  • 磁控濺射靶磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)優(yōu)化后實(shí)際刻蝕效果與實(shí)驗(yàn)

    磁控濺射是現(xiàn)代最重要的鍍膜方法之一, 具有簡(jiǎn)單, 控制工藝參數(shù)精確和成膜質(zhì)量好等特點(diǎn)。然而也有靶材利用率低、成膜速率低和離化率低等缺點(diǎn)。研究表明磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)對(duì)上述問題有重要影響, 本文介紹了一種磁控濺射靶磁路優(yōu)

  • 磁控濺射靶的磁場(chǎng)的優(yōu)化設(shè)計(jì)

    采用的是磁路疊加原理來改進(jìn)磁控濺射靶的磁場(chǎng)，最后形成的水平磁場(chǎng)是接近于矩形波的雙峰形式。這樣靶面的磁力線和磁場(chǎng)強(qiáng)度的水平分量更加平滑, 能夠有效地增加靶面跑道的寬度, 實(shí)現(xiàn)靶面均勻刻蝕。

  • 磁控濺射靶的磁場(chǎng)排布分析

    在平面磁控濺射靶中, 磁鋼放置于靶材的后面, 穿過靶材表面的磁力線在靶材表面形成磁場(chǎng)。其中平行于靶面的磁場(chǎng)B 和垂直靶表面的電場(chǎng)E,形成平行于靶面的漂移場(chǎng)E×B。

  • 濺射鋁膜的結(jié)構(gòu)與表面形態(tài)分析

    X射線衍射圖譜表明, 磁控濺射沉積的Al膜為多晶狀態(tài)。用掃描電子顯微鏡對(duì)薄膜進(jìn)行表面形貌的觀察, 濺射氣壓為0.4Pa, 濺射功率為2600W時(shí)制備的Al膜較均勻致密。

  • 直流磁控濺射的工藝參數(shù)對(duì)鋁膜沉積速率的影響

    Al膜的沉積速率隨著濺射功率的增大先幾乎呈線性增大而后緩慢增大; 隨著濺射氣壓的增大, 沉積速率不斷增大, 在0.4 Pa 時(shí)達(dá)到最大值后, 沉積速率隨濺射氣壓的繼續(xù)增大而減小。

  • 直流磁控濺射法在玻璃基片上制備鋁薄膜的工藝研究

    采用直流磁控濺射方法, 以高純Al為靶材, 高純Ar為濺射氣體, 在玻璃襯底上成功地制備了鋁薄膜。

  • 高水分玉米真空低溫連續(xù)干燥生產(chǎn)線及工藝流程

    通過對(duì)真空低溫連續(xù)干燥生產(chǎn)線工藝性分析和關(guān)鍵技術(shù)研究，建立了300t/d高水分玉米真空低溫連續(xù)干燥工業(yè)自動(dòng)化生產(chǎn)線，并對(duì)生產(chǎn)線系統(tǒng)進(jìn)行了生產(chǎn)性試驗(yàn)和關(guān)鍵技術(shù)驗(yàn)證分析。證明了真空低溫連續(xù)干燥新技術(shù)，節(jié)能高效、

  • 真空低溫連續(xù)干燥塔結(jié)構(gòu)及參數(shù)

    真空低溫連續(xù)干燥塔采用整體裝配結(jié)構(gòu)，采用模塊化設(shè)計(jì)、標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)，易于運(yùn)輸和現(xiàn)場(chǎng)安裝。保證高水分糧食等速、均勻下落，以便維持相同的干燥時(shí)間和降水幅度，是干燥塔設(shè)計(jì)的關(guān)鍵技術(shù)之一。

  • 真空鍍鋁紙印刷工藝中應(yīng)注意的問題

    真空鍍鋁除要選擇質(zhì)量?jī)?yōu)良的鍍鋁紙外，在印刷工藝設(shè)計(jì)上，應(yīng)盡量利用鍍鋁紙的特性，揚(yáng)長(zhǎng)避短。真空鍍鋁紙適用于UV 油墨印刷，可用膠印、網(wǎng)印、凹印等，但不同的印刷方法對(duì)油墨的要求有所差異。

  • 山楂漿真空凍干的實(shí)驗(yàn)研究與經(jīng)濟(jì)性分析

    山楂漿抽真空凍結(jié)干燥節(jié)省了凍結(jié)時(shí)制冷壓縮機(jī)的能耗,可以通過凍干工藝參數(shù)的優(yōu)化; 研發(fā)合理的凍干添加劑, 進(jìn)一步降低能耗。

  • 山楂漿抽真空凍結(jié)的實(shí)驗(yàn)研究

    山楂營(yíng)養(yǎng)豐富, 食用不便, 凍干加工成山楂粉, 可作為食品添加劑。為保存營(yíng)養(yǎng)成分, 節(jié)能降耗, 降低產(chǎn)品成本, 開展了對(duì)山楂漿抽真空自凍結(jié), 優(yōu)化干燥工藝的實(shí)驗(yàn)研究, 給出了凍干參數(shù)對(duì)凍干速率, 凍干時(shí)間, 凍干成本的影

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